LSI生産の短期立ち上げ、ラインの安定稼働のためインラインでプロセスを評価して問題や弱点をすばやくプロセスやデバイスフローへフィードバックを行うインライン検査・評価技術の重要度はこれまで以上に高まっている。本書では現在注目されている先端デバイス生産と先端プロセス開発でのインライン評課技術、なかでも欠陥と異物の検査技術と装置に関して技術の解説と最新動向を紹介する。
1．まえがき
2．インライン検査の考えかたと役割
3．インライン検査装置の最新動向
4．インライン検査データを用いた 歩留まり管理技術に関する最近の動向
5．まとめ
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Focus Report シリーズ
2002年7月1日発行 半導体製造プロセスにおける インライン検査技術の最新動向 定価：2,100円（税込） ISBN：4-901790-13-7 ご購入はこちらから
FR19 光リソグラフィ技術Ⅲ -実践的基礎と応用-
LSI生産の短期立ち上げ、ラインの安定稼働のためインラインでプロセスを評価して問題や弱点をすばやくプロセスやデバイスフローへフィードバックを行うインライン検査・評価技術の重要度はこれまで以上に高まっている。本書では現在注目されている先端デバイス生産と先端プロセス開発でのインライン評課技術、なかでも欠陥と異物の検査技術と装置に関して技術の解説と最新動向を紹介する。
