光リソグラフィ技術Ⅲ －実践的基礎と応用－筆者：東木達彦（東芝セミコンダクター社）
発行日：2005年3月4日
体裁：B5変型判 83ページ
定価：3,675円（税込）
ISBN：4-901790-38-2ご購入はこちらから
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『光リソグラフィ光学の基礎理解のため
に必要な基礎光学をまとめた入門書』 『執筆者からのメッセージ』
光リソグラフィの革新は月々日々に激しい。最近の光リソグラフィは液浸露光技術や偏光露光が大きな話題である。
「リソグラフィに必要な基礎光学を拾い集めたものが欲しい！」 「光リソグラフィに則った解りやすい光学書が欲しい！」 「少なくとも高校の物理レベルで光学が理解できる入門書が欲しい！」
「リソグラフィに必要な光学の基礎を例題のように記述しているものが欲しい！」 これらの要望に応じて本書を纏めた。光リソグラフィ光学の基礎理解のお役に立てば幸いである。
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関連書籍
・光リソグラフィ技術Ⅰ －実践的基礎と課題
－
・光リソグラフィ技術Ⅱ －計測と制御－
＜目 次＞
はじめに
第1章 波動光学の基礎
1.1 振動(vibration)
1.2 単振動のエネルギー
1.3 波動（wave
motion）
1.4 空間変化と時間変化に対する波動の表現
1.5 縦波と横波
1.6 波動方程式
1.7 電磁波
1.8 マクスウェル（Maxwell）の電磁基礎方程式
1.9 電磁波の伝播と波動方程式
1.10 エキシマ・レーザ
1.11 まとめ
付録1.1 波動方程式の導出
第2章 波動の諸性質
2.1 ホイヘンスの原理
2.2 回折
2.3 反射と屈折の法則
2.4 自由端反射と固定端反射
2.5 重ね合わせの原理と干渉
2.6 干渉性（coherent）と不可干渉性(Incoherent)
2.7 回折光線の干渉条件
2.8 回折格子（grating）の干渉条件
2.9 平行薄膜の干渉と反射防止膜
2.10 まとめ
第3章 解像度とK1ファクタ
3.1 結像の基本
3.2 絞り
3.3 瞳
3.4 NA
3.5 テレセントリックな光学系
3.6 コヒーレンス
3.7 エアリー・ディスクによる解像度の説明
3.8 干渉による解像度の説明
3.9 まとめ
付録3.1 3光束干渉の強度
第4章
スネルの法則と液浸露光
4.1 はじめに
4.2 屈折と屈折率
4.3 スネルの法則
4.4 液浸露光で高NAレンズ設計が可能な理由
4.5 液浸露光の解像度に関するレイリーの式
4.6 液浸露光でDOFが拡大できる理由
4.7 液浸露光の焦点深度（DOF）に関するレイリーの式
4.8 高屈折率液体材料の設計
4.9 まとめ
第5章 偏光
5.1 偏光とは何か
5.2 偏光の分類
5.3 ジョーンズ・ベクトル
5.4 ストークス・パラメータ
5.5 ポアンカレ球
5.6 露光装置における偏光
5.7 複屈折
5.8 まとめ
付録5.1 だ円偏光の式
付録5.2 だ円偏光
付録5.3 ジョーンズ・ベクトルによる偏光の表記
付録5.4 ストークス・パラメータの導出
付録5.5 ポアンカレ球（So、2χ、2Ψ）の導出
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2005年3月4日発行
光リソグラフィ技術Ⅲ
－実践的基礎と応用－
定価：3,675円（税込）
ISBN：4-901790-38-2
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