ニコンはSEMICONJapan2004で65nm以降の先端プロセス向けに実用化する液浸露光技術、偏光照明露光技術「POLANO」の紹介を行なった（いずれもパネル）。液浸露光対応のArFスキャナ「Immersion S-609B」は、レンズを大型化しNAを1.0以上に高めている。2005年第2四半期から出荷を開始する。偏光照明技術は光の偏光のうち解像度をに悪影響を及ぼす偏光を抑えることでコントラスを高め、解像度を向上させる技術。採用により0.5世代程度の技術進展効果があり、最新ArFスキャナ「NSR-S308F」に搭載することで60nmレベルのプロセスにおいても良好な結果が得られている。同技術を採用した光学系を採用した製品も2005年第2四半期から市場投入を予定している。また、同社ブースではビデオにより、液浸からEUVにいたるまでの露光技術開発のロードマップの紹介を行なっている。

URL：