日新イオン機器システムズはSEMICON Japan2004で新しいイオン注入装置「Exceed3000AH」を発表した。同装置は3〜750keVという幅広いエネルギー領域に対応、低エネルギー条件時でもビーム量を取れるようにしており、極浅い接合形成などの用途でも高い生産性が得られる。また、メカニカル・タクトタイムの短縮、プロセス切り替え時間の圧縮、ビーム電流増加などにより実効スループットを毎時340枚（300mmウェーハ）にまで拡大している。

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