信越化学工業と凸版印刷は07年3月8日、45nm、32nmに対応するフォトマスク・ブランクスを共同開発した、と発表した。これによりフォトマスクの微細加工精度が大幅に高まり、高精度かつ信頼性の高い最先端フォトマスクの供給が可能になったという。新フォトマスク・ブランクスおよびこれを用いたフォトマスク・サンプルの出荷を順次開始している。最先端フォトマスクの技術開発は、その基材となるフォトマスク・ブランクスの性能向上やそれに合わせたフォトマスク製造プロセスの構築が不可欠で、早期に開発し製品を提供することが重要。フォトマスク用合成石英および特殊レジストを手がける信越化学工業とフォトマスクの有力企業である凸版印刷は最先端フォトマスク・ブランクスの共同開発に取り組み、新たな製品の開発に成功した。またフォトマスクの製造においては新フォトマスク・ブランクスに適した新プロセスを開発し、高精度の微細加工を実現した。これにより信越化学工業はハイ・エンド・フォトマスク・ブランクス事業に進出することになる。開発においては信越化学がフォトマスク・ブランクス開発、凸版印刷が開発品の評価ならびにフォト・マスク製造の新プロセス開発を担当し、従来のフォトマスク・ブランクスをコンセプトから見直し、従来製品にない革新的な材料構成を実現したという。新フォトマスク・ブランクスは優れたエッチング特性を有しており、フォトマスク製造ではその特性を引き出すための新プロセスを確立し、45nm、32nmで要求される高い精度の製品を安定的に製造することを可能とした。

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