独GenIsys社は07年12月13日、電子ビーム直接描画と近接露光のための、最先端3Dレジストモデリングに関する研究・ライセンス契約を、独フラウンホーファー統合回路研究所の製造部品技術（IISB）と締結したことを発表した。フラウンホーファーの3次元レジストモデリング技術をGenIsysの「Layout LAB」マスクアライナ・リソグラフィ・シミュレーションソフトウェアと「Layout BEAMER」電子ビーム・データプレパレーション／PECソフトウェアを統合する。社内体制のさらなる強化のために近接効果補正（PEC）のエキスパート NikolaBelic を上級開発エンジニアとして開発チームに迎えることとした。GenIsysは微細構造ファブリケーション・プロセスの最適化ソフトウェアを提供する企業。